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保定标题：使用金相显微镜分析表面型态颗粒-无电镀析
所属分类：新闻资讯 点击次数：300 发布日期：2026-04-21
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使用金相显微镜分析表面型态颗粒-无电镀析
无电镀析镀镍于二氧化矽奈米线上之特性研究
利用金颗粒成长二氧化矽奈米线，再以无电镀析镀的方式，析镀镍于二氧化矽奈米线基材上，
无电镀析镀Ni-P薄膜的pH 値分别是4.2、4.6、5.0及5.4，
将已析镀Ni-P薄膜之试片在温度400℃、450℃、500℃下进行真空快速退火热处理(Rapid Thermal Annealing , RTA)。
使用金相显微镜分析表面型态，X光绕射仪(XRD)探讨Ni-P薄膜之结构，
交流式梯度磁场量侧仪(AGM) 量侧其磁性。
实验结果指出，在退火400℃、10 s时，pH5.4、析镀时间180s与90s，pH5.0、析镀时间203s，pH4.6、
析镀时间270s之薄膜皆有优异的软磁性。随着退火温度与退火时间增加，Ni颗粒会渐渐变大，
顽磁力(Hc)值也随之增大，而使软磁特性渐渐丧失；在pH値影响方面，pH5.4条件下析镀之薄膜，
其软磁特性较容易丧失， 而pH4.2条件下析镀之薄膜，软磁性则越不易丧失。
关键字：无电镀、二氧化矽奈米线、顽磁力、软磁性。