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古县采用电子束微影设备其解析能力可至次微米级
所属分类:新闻资讯 点击次数:28 发布日期:2026-04-19
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将样品(D)使用电子光束蒸镀系统(E-Gun Evaporator , E-Gun)在样品上镀一层厚 150 奈米(nanometer,nm)的铝。
接着在镀好的铝上,旋转涂布(spin coating)一层 PMMA 光阻,再用加热板烘烤
接着在镀好的铝上,旋转涂布(spin coating)一层 PMMA 光阻,再用加热板烘烤
一个小时。
我们采用电子束微影设备(E-Beam Writer)来进行曝光,以达到次微米级的微影条件,因为电子束的波长远比一般所使用的深
我们采用电子束微影设备(E-Beam Writer)来进行曝光,以达到次微米级的微影条件,因为电子束的波长远比一般所使用的深
紫外光短很多,随着电压增加,电子束波长亦会变得更短,
所以其解析能力可至次微米级。将设计好的图案曝写在样品上,再使用显影剂
所以其解析能力可至次微米级。将设计好的图案曝写在样品上,再使用显影剂
(MIBK)显影。完成显影后,我们使用氢氟酸(HF)来对铝蚀刻,达成图案转移,
最后再用紫外光臭氧清洗机(UV-Ozone Asher)除去光阻,如此就完成我们的加工制程
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最后再用紫外光臭氧清洗机(UV-Ozone Asher)除去光阻,如此就完成我们的加工制程
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