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上思特别适用于对可能包含多晶区的晶片分析电子显微镜
所属分类:新闻资讯 点击次数:9 发布日期:2026-04-19
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特别适用于对可能包含多晶区的晶片分析电子显微镜
较高能量的电子束可用以进行反射式电子衍射(RHEED)
,这时采用小的掠射角,并利用向前散射的电子来造成
衍射花样,而这种向前散射的电子的产生率不会由于入射电子能
量的增加而减小.如果试样表面象那样粗糙,则光:豪
可以贯穿凸出部,这时情况就基本上和透射电子衍射相同了.然
而,如果表面在原子尺度上是十分光滑的,那末当电子束以小角度
入射时,它的贯穿深度也是十分小的,这时反射式高能电子衍射将
和低能电子衍射一样,基本上只与试样表面的几个原子层有关.需
要记住的是:虽然电子束的直径很小,但因掠射角也很小,因此试
样表面受电子柬照射的区域将是一定长度的狭带,这个区域都产
生衍射,这样,要进行局部区域的测量就变得困难了.正因如此,
在研究表面时,反射式高能电子衍射的应用就不象低能电子衍射
那样广泛.但它也有一个优点,即它更容易观察到小的晶体结均
不同的局部区域
反射几何也可应用于形貌照相,如果被检验的是表面或似外
延层那样的薄层,则最为适宜.已经采用了类似于透射形貌照相
中所用的某些改进办法,例如,双晶单色器以及使用选择挡板来限
定观察截面等.白色辐射和大截面的X射线柬也能用来拍
摄形貌照相图.用这种方法拍的斑点也是大的,并将显示出结
晶学细节.这种方法特别适宜于对可能包含多晶区的晶片快速地
作形貌图
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