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良好解理的矿物不能在它们暴露出来的研磨

所属分类:新闻资讯 点击次数:12 发布日期:2026-04-19

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良好解理的矿物不能在它们暴露出来的研磨

  此外,具有良好解理的矿物不能在它们暴露出来的研磨或
抛光,如果在此面上抛光,往往只能得到极差 的抛光效果
,因为要样品制备过程中,更小的解理碎片会不断从这种表
面上剥落下来,因此作为一般规则,对于这类样品,垂直于
主要解理方向而洒沿着解理方向进行切割、研磨和抛光比较
合适。

  对于大多数抛光实验室来说,象花岗岩或多矿物脉体这灯
复合的制作中不存在多大问题的,可以用没有绒毛“培论”
布研磨,以减少凹凸不平的问题,但有时还要略加改良,

因为有时要求良好抛光的主要对象是个别矿物而不是所有颗
粒,值得注意的是,流体包裹体抛光片对反光显微镜分析,
遗憾的是,相对的情况却不行,因为用来制作传统光片和光
薄片的粘结树胶在加热台上,加热到80℃以上时就要变黑和
分解。

  象尖晶石,闪锌矿和锡石等矿物通常认为似乎太不透明,
不适合作包裹体研究,其实这并不确切,因为所有的光薄片
都要求薄到足以透光。事实上,很很多闪锌矿和锡石的抛光
片只要薄到0.1mm就适合于研究了,但是,若要研究铬铁矿
中的包裹体,则必须制备厚度小于20微米的超薄抛光片,

制作这类超薄的光薄片有两个特殊的问题:一是样品薄弱容
易碎裂,二是样品趋于过薄,所谓“过薄”就是样品被磨得
几乎什么也不剩下了,这样就破坏了许多可能存在数有用的
包裹体,只有特别小心才能避免这些总理,用于抛光的超薄
薄片可以用环形锯从很小的精致样品上(例如单晶)锯下来

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