断口表面的低倍放大形态法分析图像显微镜
所属分类：新闻资讯 点击次数：1 发布日期：2026-04-20
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断口表面的低倍放大形态法分析图像显微镜光学显微镜下的断口分析特征 一个断口表面的低倍放大形态常常用于评价一种金属所存在的塑性和韧性的程度。按照断裂力学理论，韧性是一种与材料过载和快速断裂有关的关键性能。从断Vl表而所包含的一些残留的痕迹可看出造成断裂的高能量(塑性、韧性)和低能量(脆性)裂纹延伸数量。荧光指示剂 单突触的多数光学研究用一个荧光指示剂染料来追踪膜运输或测量钙浓度。研究单突触有时仅用一台好显微镜，有效方法如用CCD照相机来收集光线就可以了。CCD照相机原来是用于天文学的。对于一个合适的标本，如生长在培养基里面的神经元，用这种有效的成像方法再结合计算机程序来操纵图像。将可更有效地(较之更昂贵的激光显微镜)回答某些问题。 研究单突触时，另一影像学方法是应用钙指示染料检测、监视突触或突触后的局部钙浓度。这个方法由钱(Tsien)和他的合作者发展起来。与突触前动作电位相关的或当突触后NMDAR被激活时的钙内流，都可用此种方法加以检测。这两类事件都产生钙浓度的瞬变，可以被监视，而且能满足局限于报告单个突触行为的要求。在细胞培养条件下运用这些影像方法，经常需要一种叫做自接触(autaptic)回路的条件。所谓自接触回路是指培养的游离神经元突起在自身细胞上所形成的突触。就是细胞本身，人们可以知道被研究突触的所有来源及去向。 荧光方法使我们可以在实时和活细胞的条件下作准确测定。所用的方法有：荧光共振能量转移(fluorescent resonance energy transfer，FRET)、发光共振能量转移(1uminescence resonance energy transfer，LRET)、单分子漂白分析、
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