晶纤专用光学显微镜观察晶纤表面缺陷形貌
所属分类：新闻资讯 点击次数：12 发布日期：2026-04-20
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晶纤专用光学显微镜观察晶纤表面缺陷形貌 鉴于晶纤的透明性，可采用光学显微镜对晶纤缺陷进行观察.也可采用电子显微分析技术分别对晶纤表面缺陷形貌及缺陷成分进行分析。晶纤的光学显微镜观察 采用光学显微镜对晶纤内部的散射颗拉及其它缺陷的研究比较直观。且制样简单，只要把样品用乙醇擦拭。便于样品放在样品台上，长度要求大于I厘米，对于较小样品，可用橡皮泥或其他夹具固定。 直径波动与显微缺陷(如汽泡、散射颗粒、生长条纹、裂缝或炸裂、表面附着物等)与生长工艺参数(如熔区长度、速比、拉速)及不同的晶纤材料有直接关系。电子显微分析技术. 电子显微镜主要有两类:一类是透射式电子显微镜;另一类是扫描式电子显微镜。它们都利用高速电子同试样作用时所产生的信息成像，但两者所利用的信息种类有所不同，成像原理也有所区别。透射式电子显微镜是利用试样对入射电子波的衍射成像。扫描式电子显微镜主要利用非弹性碰撞过程中所产生的各种信息按类似于电视的方式成像。由于扫描电镜具有:试样制备简单;能对试样的特定部位同时作形貌、成分、结构等多项观察的优点，因此我们采用扫描电镜观察晶纤表面缺陷并用电子探针能量色散谱(简称EDS)对缺陷进行微区分析。
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