光学研磨抛光技术-在微光学元件中有许多的改进方法
所属分类：新闻资讯 点击次数：12 发布日期：2026-04-20
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光学研磨抛光技术-在微光学元件中有许多的改进方法在微光学元件中有许多的改进方法，而我们是以光学研磨抛光技术作为我们改进微光学元件的表面粗糙度的问题，并可增加其反射效率或透射效率，现在研磨抛光技术比以往进步很多，但主要是顺应大量加工和省力化。在研磨加工机械方面，我们使用压电陶瓷马达作为我们的主要驱动器，其可作为一维的精密推动，移动范围可从微米级（μm）至厘米级（mm），而移动速度可控制范围从（10μm/sec）至（10mm/sec）。另外，我们可在其上加上一向下之正向压力从（0.01NT）至（10NT），以进行我们的微光学元件研磨抛光。而我们先以两片直角柱状镜作研磨工件，两片互相相对，沟槽对沟槽，对其两沟槽作研磨，但是因其皆为微小（100μm），故难以对准，所以我们利用我们实验室已有之 moire 叠纹校准法对其加以修正，当两沟槽不为平行就会有 moire 叠纹的出现，故当两沟槽为平行时，就不会有 moire 叠纹的出现。见图（5-7），此图即为两沟槽为有倾斜之状，其 moire 叠纹非常之明显，所以我们就必须加以修正，当其图没有 moire 叠纹的出现就是我们所要之两沟槽对准平行，而此实验我们还在进行当中，并且是我们将来首要进行之工作，以此改进方法相信在未来会大大的应用，在以 LIGA或是以LIGA-like制作微光学元件，皆可解决此方法制作上之缺点，满足将来更高品质之光学微系统需求。
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