网站网友点击量更高的文献目录排行榜： 点此链接 0 光刻工艺制作电子材料焊点质量检测显微镜传统的电子系统一般是利片J删减式光刻工艺制作。在任意电子材料中(如导体、二极管或者半导体)构建图案的过程一般如下：(1)在基质层上沉积电子材料．沉积通常采用真空条件下的化学气相沉积或者物理气相沉积；(2)随后基底用光刻胶涂覆；(3)光刻胶通过掩膜暴露于光刻系统中；(1)光刻胶在基底的掩模区域显影用于移除抗蚀剂；(5)利用湿化学法或干刻蚀法(如等离子)刻蚀去除沉积的薄膜；沉积的薄膜只在先前光刻胶被显影移除的区域被刻蚀；(6)将剩余的光刻胶剥离使薄膜暴露；(7)最后。将基底清洗移除光刻和刻蚀过程中的残余杂质。这七个步骤的掩膜和刻蚀过程重复多次，最终得到复杂的没备和电路。    上述技术称为删减式方法，因为图案是通过“移除”材料而获得的。这种删减式过程需要多个步骤才能制作出一个单一的图层。由于完成这一复杂t艺需要合适的仪器，增加了整个过程的复杂性．同样也增加了成本支出。    一般而言，印刷技术，特别是喷墨打印技术，是一种潜在的替代性生产技术．它是一种增材制造技术。在增材制造过程中。沉积技术用于直接沉积薄膜。从概念上来说，印刷工艺将上述七个步骤减少到单独一个步骤。喷墨打印是增材印刷技术的一个典型的例子，油墨可以印在所要求的地方。    基于上述各步工艺的分析，能比较出印刷电子品相对于传统的微电子制造过程的优缺点。由于印刷电子产品能降低整个工艺过程的复杂性，有望减少生产过程的成本支出，并且与塑料或箔片等低成本，大面积基质的兼容性也较为出色。因此，印刷电子单位面积相比于删减式的光刻技术，成本可能要低一至三个数量级。但另一方面，在传统微电子应用中，光刻技术的线条宽度能够达到约50 nm，而在大面积显示应用中能达到1～3μm。而更先进的工业化喷墨打印机只能达到20μm，甚至在研究中，将喷墨打印的线条缩窄至1μm以下也极具挑战性。因此，尽管印刷电子的单位面积成本有望比删减式硅处理的方法低很多，但是相比于传统微电子中每个晶体管的成本则要高很多．这是因为传统微电子中每个晶体管非常小。    所以．很容易总结了印刷电子发展的可能的推动力。印刷电子作为一种生产电子系统的方式具有很大的吸引力，因为它在单位面积上的成本具有较大的优势。但是因为印刷电子的线条宽度无法令人满意，上述的优势只在那些集成度较低的系统中存在，例如在那些不需要密集的晶体管阵列的系统中。印刷电子也有望使用低成本，可弯折的基底，例如塑料以及金属箔片。此外，通过在同一台打印机上使用不同的油墨，也将一系列材料较为容易地在特定空间中沉积在基质。 关注页面底部公众号，开通以下权限： 一、获得问题咨询权限。 二、获得工程师维修技术指导。 三、获得软件工程师在线指导 toupview,imageview,OLD-SG等软件技术支持。 四、请使用微信扫描首页底部官方账号！