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电镀溶液金属离子的化合物-金属分析显微镜
所属分类：显微镜百科 点击次数：151 发布日期：2022-06-20
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电镀溶液金属离子的化合物-金属分析显微镜配合物是由配位体和金属离子通过形成配位键而组成的一类新型的化合物。所谓配位体，是指可提供孤对电子给金属离子的化合物，如水中的氧原子、氨中的氮原子、硫代硫酸根中的硫原子以及各种有机酸中的氧原子和氨基酸中的氮、氧原子等均可提供孤对电子，因此，氨、硫代硫酸盐、氨基酸和有机羧酸就是通常我们所说的配位体。由于配位体和金属离子几乎无所不在，因此，不论在人体内，在自然界以及在许许多多的湿法工业制造过程中，都会用到配位体或配合物，也就必然涉及到配合物的理论与应用。以金属制品的电镀加工为例，从制品的除油去污、酸洗或腐蚀、化学或电化学抛光、电镀、镀后的钝化与保护，无一不与配合物有关。 从电镀溶液(以下简称镀液)的配制，到金属镀层在阴极上形成，其过程是非常复杂的。这个过程通常包括一连串的反应。例如，要配制对设备腐蚀性小、镀层质量高的碱性镀液，单用该金属的盐类就不行了，因为一般金属离子在中性或碱性时会生成氢氧化物沉淀。要满足上述要求，就必须选择合适的配位体加入镀液，并在一定条件下使它生成对碱稳定的配离子。这一过程就是形成配离子的过程，这时的反应称为配位反应。配制好的镀液还可能有无机的或有机的杂质存在，使用前，必须进行适当的处理。如用活性炭、锌粉或通电处理等。也可加入适量的配位体使杂质被掩蔽，而不在阴极上析出，这叫做电化学掩蔽反应。 若在配制好的电镀溶液中插入金属电极，在电极与镀液的界面上就会产生电位差，平衡时的这种电位差就是该金属的平衡电位。有配位体与无配位体时，镀液的平衡电位是不一样的。配位体的加入，一般使金属离子的平衡电位向负的方向移动，即配离子的平衡电位一般比简单金属离子的平衡电位更负些。这说明配位反应对金属的平衡电位有明显的影响。
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