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金相制样的步骤简介-金属试样机械抛光机仪器厂商
所属分类：显微镜百科 点击次数：84 发布日期：2022-06-20
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金相制样的步骤简介-金属试样机械抛光机仪器厂商 机械抛光中的精抛：经粗抛光后的试样还需要进行精抛光。精抛光的目的：是把试样检验面磨成一个平整光亮没有划道及因磨制操作产生的其他缺陷，一般精抛光到试样上的磨底完全除去而表而像镜面时为止。 精抛光所用的设备和粗抛光所用的设备基本相同，抛光盘直径一般为200^-250毫米，转速（约为400-1450转/ 分之间）根据试样要求而定，所有抛光材料（布和粉）也须根据检验的目的和被磨材料的性质和状态来定 对于精抛用的磨料一般采用经过水选的极细氧化铝粉或氧化镁粉，颗粒直径一般在0.3 μ~1 μ之间。水选方法是将磨碎的氧化铝粉放入玻璃缸或瓷缸内，加入适量的水，调成稀浆，静置一段时间，待较粗颗粒下沉后，用虹吸法将上层液体吸入另一玻璃缸内静置，使其中极细的氧化铝（或氧化镁）粉颗粒下沉后即可使用。对硬质合金等特硬材料，要用金刚石粉膏。 精抛光注意事项基本上和粗抛光相同，但还必须特别注意： （1 ）要更加注意清洁，不使较粗颗粒的抛光粉混入抛光盘上和精抛用的水浆中； （2 ）试样在抛光盘上精抛时，用力要轻，要注意使之均衡，务求平稳，须从盘的中心至边缘来回抛光，并不时滴加少许的磨粉悬浮液，表面水膜能在2-3 秒钟内完全蒸发消失为宜。在抛光的完成阶段，可将试样与抛光盘的转动方向成相反方向抛光；
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