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保定标题：微影技术简介-晶圆表面的光学量测几何图案
所属分类：新闻资讯 点击次数：275 发布日期：2026-04-21
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微影技术简介-晶圆表面的光学量测几何图案
在半导体制程中，微影技术是决定半导体线宽尺寸的关键技术，
而覆盖误差量的控制又是微影制程的关键。随着半导体制程的发展，积体电路的元件线宽越来越小，
覆盖误差（Overlay error）量的控制也越来越重要。产生覆盖误差的原因是光罩之对
位不正以及光源经过透镜组与光罩后，因为电磁场与表面结构之近场交互作用的
效应以及远场之光学像差影响，造成晶圆表面的光学量测几何图案偏移与变形。
为了能有效控制覆盖误差量，除了利用测量仪器做定位以减少对位产生之误差之
外，对于图案线宽小于波长等级之结构，使用数值模拟的方法在电脑上进行计算，
以事先了解光罩图案在近场因绕射效应产生之图案变形，做更佳之光罩图样设计以减
少覆盖误差量是较经济且有效的做法。