上思光刻技术,精密蚀刻的“印刷电路”和化学蚀刻-老上光仪器厂

上思公司新闻上思行业新闻上思常见问题

新闻资讯

所属分类：新闻资讯点击次数：8 发布日期：2026-04-19

大家好，这里是老上光显微镜知识课堂，在这里你可以学到所有关于显微镜知识，好的，请看下面文章：

光刻技术,精密蚀刻的“印刷电路”和化学蚀刻

光刻技术起源予商业上的照相制版术，该技术本

身则用于制备精密蚀刻的“印刷电路”和化学蚀刻中的精密的金

属孔径掩模。将二氧化硅薄层作为扩散掩蔽的平面工艺问世

后，把这一工艺用于控制扩散区域的尺寸，从而导致了集成电路

技术的发展。

如果硅片贮存时间过长或贮存不当，其表面沾污或变脏时，

就进行预清洗。这是为硅片表面涂胶作准备。

涂胶操作是将光刻胶以均匀的薄层涂覆在硅片表面的二氧

化硅上，并应将由工艺所引起的缺陷减至最少。涂层需经烘干

处理，以蒸发溶剂并为以后的工序坚膜。在紧接着预清洗后的

全部操作步骤中应使用层流净化台，且操作要谨慎，以防硅片受

尘掺和烟雾的沾污。

网站网友点击量更高的文献目录排行榜：点此链接关注页面底部公众号，开通以下权限：一、获得问题咨询权限。二、获得工程师维修技术指导。三、获得软件工程师在线指导 toupview,imageview,OLD-SG等软件技术支持。四、请使用微信扫描首页底部官主账号！