AFM电子显微镜是可用来量测微,纳米级微结构
所属分类:新闻资讯 点击次数:14 发布日期:2026-04-20
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AFM电子显微镜是可用来量测微,纳米级微结构AFM是可用来量测微、奈米级微结构,但是当CD尺寸小于100 nm时,AFM探针之与外形也是在这个尺度,量测时,因AFM探针外形与奈米结构会有几何外形干涉问题,无法确切量测出奈米结构形貌,造成量测尺寸的误判。量测时,以探针分别量测物体两侧形貌尺寸,两侧形貌之间距,减去已知探针之轮廓,则可估算出真实试片之轮廓形状或线宽值,本研究提出一种创新的半导体奈米结构量测方法,采用双倾斜之AFM扫描量测,将两次倾斜后之扫描影像,以影像叠合技术,配合探针尺寸修正,即可克服原本被干涉而无法量测区域转变为可量测到的区域,以正确地量测出半导体CD尺寸,应用于线宽量测的估算量测不确定度为3.18 nm。 100 nm以下线宽量测方法 量测100 nm以下线宽时,使用CNT(奈米探管)-AFM单向扫描二次方法,以AFM量测试片后,得到扫描图像,将试片旋转180度,同样再扫描一次后,以影像叠合技术将二次扫描结果组合,便可得到待测件真实轮廓。此方法会碰到的问题为奈米工件非常细微,经旋转180度后,很难再找到同样位置进行量测,会造影像叠合技术之组合误差。
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