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掩膜材料表面分析便携式图像显微镜厂商
所属分类：显微镜百科 点击次数：584 发布日期：2022-06-20
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掩膜材料表面分析便携式图像显微镜厂商曝光后坚膜 改善抗蚀剂抗蚀性能的另一种技术是曝光后坚膜。工艺步骤是=涂胶，曝光，然后再将版子在90℃下烘lOmln。这一措施是为了防止抗蚀剂在显影期间的浮胶问题，其目的是为了提高抗蚀剂的抗蚀性能。曝光后坚膜对平滑的掩膜材料表面来说更为有效。因为平滑的表面同抗蚀剂的结合力较差。曝光后坚膜的突出优点是能消除曝光时产生的驻波图形和显影前的部分潜像。由于用了高反射率的衬底，驻波现象是一个普遍问题。按照抗蚀剂中增感剂受热后将重新分布的理论，曝光后坚膜确能消除驻波图形，．改善图形的边缘情况。-曝光后坚膜的缺点是，与一般的方法相比，显影逮率略有降低 另一个技术是在显影后和后烘之前使抗蚀荆曝光；显影后曝光能使抗蚀剂中的氮气及早放出，使得抗蚀剂在后烘期间变得更致密。显影后曝光消除了在后烘期间由于氮气的释放而形成的针孔，保证了以后的刻蚀质量。 ·一 。 典型盼显影后曝光工艺是。涂敷，前烘，曝光(成像)，显影，然后再用短波长汞灯对抗蚀剂照射5一15s。这里关键的问题是保证显影后曝光的时间与用于成像的曝光时间相匹配。显影后曝光龄突出优点是去胶方便，大量的实践已经证明，正性抗蚀剂的显影后曝光大大简化了去胶工艺。、一般情况下正性抗蚀搿的前烘温度较低，但已能基本保证抗蚀剂的粘附力和抗蚀性能。
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