以后再说X

欢迎光临~老上光显微镜

全国服务热线: 400-811-7895

新闻资讯
显微镜百科

根据不同用户不同要求实验研究开发光刻胶

所属分类:显微镜百科 点击次数:109 发布日期:2022-06-20

网站网友点击量更高的文献目录排行榜: 点此链接 0 根据不同用户不同要求实验研究开发光刻胶    大多数的光学和非光学抗蚀剂需要靠坚膜来提高抗蚀性。主要目的是为了减少在刻蚀工艺中所弓I起的图像钻蚀:对不同的刻蚀工艺,坚膜条件也不同。干法刻蚀工艺的各向异性性能比较好,其坚膜的时间和温度可适当地减少和降低。干法刻蚀的工艺条件主要取决于刻蚀用的工作气体。近年来蚀剂的品种在逐年增加,新的抗蚀剂具有更好的化学和物理性能。这些材料都有各自的千法瓤蚀和湿法刻蚀的刻蚀剂。选择刻蚀剂的依据是,通过刻蚀后,原有抗蚀剂的图像几何尺寸应保持基本不变、边缘整齐、无严重钻蚀现象。    一般来说,通过坚膜可以提高抗蚀剂的化学稳定性。衡量一种掩膜材料好坏的标准是通过刻蚀后,在成像区投有针孔,在非成像区没有抗蚀剂的残留物和其他沾污。抗蚀刹必须能在某种溶液中彻底清除干净,同时这种溶液又不能影响衬底。遗憾的是,事实上没有一种扰蚀剂能完全达到这些要求。    现在,实验研究开发光刻胶的目标是:根据不同用户的不同要求,提供各种光抗蚀剂和电子束抗蚀剂。正性光致抗蚀剂独霸市场的时代已经过去了,各种新的抗蚀剂正在不断涌现。目前有几种新的抗蚀剂已进入最后的测试阶段,不久就可以商品化。最引人注目的是为某种特殊工艺要求设计的高温抗蚀剂,它的特点是坚膜温度高,抗蚀性能好,分辨率高,这种材料较适应于难瓣蚀材料的掩膜层。 关注页面底部公众号,开通以下权限: 一、获得问题咨询权限。 二、获得工程师维修技术指导。 三、获得软件工程师在线指导 toupview,imageview,OLD-SG等软件技术支持。 四、请使用微信扫描首页底部官方账号!

首页 产品 手机 顶部