显微镜百科
光刻工艺分析最小形体尺寸计量图像显微镜
所属分类：显微镜百科 点击次数：233 发布日期：2022-06-20
网站网友点击量更高的文献目录排行榜：
点此链接
光刻工艺分析最小形体尺寸计量图像显微镜 光刻工艺 光刻是通过掩模在一种称为光刻胶的薄层材料上印刷几何图形的工艺，光刻胶是一种对辐照敏感的材料。 图形制作过程通过光刻曝光装置发射光线来完成。决定曝光装置性能的有三个特性：分辨率、对准精度和产出量。分辨率定义为高保真地传输到位于晶片表面光刻胶膜上的最小形体尺寸。对准精度是衡量连续几个掩模图形与晶片上先前确定的图形对准的准确程度。产出量是指对于一个给定的掩模每小时可曝光的晶片数量。对于不同的分辨率选择不同类型的光线 晶片和掩模之间的紧密接触可以得到很高的分辨率，通常高于1μm。然而，接触印刷由于晶片表面上的颗粒与掩模接触而擦伤掩模。这些颗粒最终会在掩模的透明区域形成不透明的暗点。 投影印刷是另一种曝光方法。在这种方法中，减小了遮蔽印刷中产生的掩模损伤问题。投影印刷曝光装置将掩模图形的图像投射到距掩模几厘米的被光刻胶覆盖的晶片上。在投影印刷中为提高分辨率，每次只曝光掩模的一小部分。一个大约1mm宽的窄弧形像场将掩模的缝隙图像顺次地转移到晶片上。
关注页面底部公众号，开通以下权限：
一、获得问题咨询权限。
二、获得工程师维修技术指导。
三、获得软件工程师在线指导
toupview,imageview,OLD-SG等软件技术支持。
四、请使用微信扫描首页底部官方账号！
相关新闻
- 金相显微镜的结构、原理及应用 [2023-07-07]
- 金相显微镜如何观察金相组织 [2023-07-07]
- 金相显微镜的基本原理与应用 [2023-07-07]
- 金相显微镜会遇到的哪些误区 [2023-07-07]
- 金相显微镜厂家：金相试样的平整与磨光 [2022-07-30]
- 仪器创新对我国的发展有着重要的意义 [2022-07-30]
