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蒸发和刻蚀制造工艺机械强度样品加工材料显微镜
所属分类：显微镜百科 点击次数：204 发布日期：2022-06-20
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蒸发和刻蚀制造工艺机械强度样品加工材料显微镜场发射性能 场发射是指电子自固体表面逃逸到真空的量子力学隧穿现象。在外加电场作用下，固体的表面势垒被压低减薄，使电子有一定几率穿透这一势垒至真空。从固体中发射电子分为热电子发射、光电子发射和次级电子发射三类，这些均需要给电子提供大于逸出功的额外能量才能发生。场电子发射的特点是无需给电子提供额外能量就能发射出来。典型的场发射应用实例是冷阴极，冷阴极具有电子能量分布窄、耗能低、稳定性高等特点，被广泛用于显示器电子枪、扫描电镜电子枪、微波功率放大器等领域。作为理想的场发射体材料应满足以下几个要求：①发射体材料易于发射电子；②发射体材料是高熔点材料，因为发射体工作时通过的电流密度很大，容易使局部温度过高；③发射体材料化学稳定性好，因为发射体工作时局部温度较高，易与器件内残余气体反应，为了保证发射体正常工作，必须要求选用化学稳定性好的高熔点材料；④发射体材料具有一定的耐离子轰击能力，因为发射体工作时器件内残余气体电离产生正离子，并与发射体阴极轰击碰撞，降低发射体使用寿命。 目前，场发射体材料的制造工艺通常以蒸发和刻蚀等为主。根据使用条件不同，将其制作成单个发射体或发射体阵列，并使其端部具有微尖结构。碳纳米管等一维纳米材料本身就具备场发射应用所需的尺寸要求，综合考虑热导率、化学稳定性及机械强度等因素，碳纳米管等一维纳米材料有望部分或全部取代目前的硅材料成为新一代场发射材料。
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