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微影制程检测工业显微镜-减少图形偏移
所属分类：显微镜百科 点击次数：127 发布日期：2022-06-20
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微影制程检测工业显微镜-减少图形偏移微影制程中，曝光机在执行基板粗对位(coarse alignment)时的误差精度准确与否， 将影响生产的产量及顺畅性。粗对位误差越小越好，不佳的误差将导致对位时间过久，增加生产的时间成本。粗对位误差过大时，甚至将无法对位， 需要以人工方式确认处理，增加品质风险。若处理人员判断错误， 更有可能造成曝错，造成产品图形偏移 机台内机构的精度误差，会因为长时间而累积。目前业界尚无可以针对曝光机粗对 位误差进行长期监控的系统，亦无法立即发现异常来调整补正。当发现问题时，需要 针对各个单元一一澄清，若无法即时修正并改善，长期下来将损失很多产能。 首先收集机台生产资料，分析对位误差 与对位时间的关系；并收集历史露光中心补正调整与对位误差的相关资料，以倒传递 类神经网路演算模式，训练并建立出调整补正量与粗对位误差间的关系，改善现行靠人力判断的方式，减少补值后的误差，增加调整后的对位精度，维持一个良好的状 况，增加机台生产的顺畅性。 在制程监控方面，套入多变量统计分析的概念，模拟出五项对位误差数据之间的影响关系，训练出较佳的管制规格，以此规格监控实际生产时的粗对位误差，提早发现异常点并即时处理。 粗对位误差产生的原因，建立出可靠的误差估测方式，以解决目前业者无法监控，免于大量产品对位时间过长的情况发生
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