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使用SEM电子显微镜观察显示在电镀金相结构
所属分类：显微镜百科 点击次数：321 发布日期：2022-06-20
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在镀液中添加不同氯离子浓度之沉积铜结晶行为，利用场射扫瞄式电子显镜(FESEM)及高解析穿透式电子显镜(HRTEM)附加成分分析，观察分析电解沉积铜初始生长形貌及显微结构。由阴极极化及定电流电镀结果显示，可知电镀铜时阴极电位随氯离子浓度提高而增加。由SEM观察显示在电镀结晶过程，由于三角形氯化亚铜沉积物除了存在阴极的表面，而且形成在沈积群集铜上，造成阴极电位增加。在初始生长期间，显示群集生长的铜和六角形的氯化亚铜沉积物同时被还原，最后可发现由许多平行之六角形面，以螺旋差排生长形成之金字塔形状的氯化亚铜沉积物。氯化亚铜沉积物吸附上钛阴极表面，造成极化影响更进一步证实并且验证，透过阴极电位量测和FESEM研究沉积形貌，观察在相同电镀条件下，铜阴极表面比钛阴极，吸附更少氯化亚铜沉积物，导致极化影响下降。
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