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液相冷凝基本特征制备不同成分分析显微镜

所属分类:显微镜百科 点击次数:160 发布日期:2022-06-20

网站网友点击量更高的文献目录排行榜: 点此链接 0 液相冷凝基本特征制备不同成分分析显微镜与晶态材料相比,非晶态材料的基本特征是其构成原子在很大程度上的混乱排布,体系的自由能比对应的晶态要高,处于热力学上的亚稳态。因此,获得非晶态材料必须解决下述两个关键问题:①形成原子的混乱排布。②将这种热力学上的亚稳态在一定的温度范围内保存下来,使之不发生向晶态的转变。基于以上两点,人们开发出很多非晶态材料的制备方法,最常见的是液相冷凝法、气相沉积法和机械研磨法等。    液相冷凝法    首先将原材料加热熔融成液态,然后通过不同的途径使熔体冷却凝固,最后致使熔体的无序结构得以保留至固态而形成非晶态材料。     气相沉积法    先采用各种工艺将晶态材料的原子或分子离解出来,然后促使它们无规则地沉积到低温冷却底板上,从而形成非晶态。由于受到导热的限制,一般只能制备出非晶态的薄膜材料,厚度从几十纳米到微米量级。近年来发展的高速溅射能够制备出几个毫米的块状非晶材料。根据离解和沉积的方式不同,分为溅射、真空蒸发、辉光放电、化学气相沉积等,各适用于制备不同成分和不同类型的非晶态材料。    溅射法    溅射法是在位于低压气氛中的两个电极加上电压,将气体电离,离子冲击靶材表面,使其释放去原子,这些原子在冷却板上无规则地沉积形成非晶态材料。一般将样品制成多晶或研成粉末,压缩成型,进行预烧以作为溅射用靶,抽真空后充入一定压力的氩气即可进行溅射。采用这种方法可以制备出大部分含稀土元素的非晶态合金,也可以用来制备非晶态的硅和锗。因为采用氩离子轰击,样品中一般含有少量的氩,其他杂质含量较少。通常非晶态薄膜的厚度约为几十个微米。   真空蒸发沉积  和溅射法相近,同为传统的薄膜工艺。蒸发时,在真空中将预先配制好的材料加热,并使从表面蒸发出来的原子沉积在衬底上。原材料的加热可以采用电阻加热、高频加热或电子束轰击等方法。 关注页面底部公众号,开通以下权限: 一、获得问题咨询权限。 二、获得工程师维修技术指导。 三、获得软件工程师在线指导 toupview,imageview,OLD-SG等软件技术支持。 四、请使用微信扫描首页底部官方账号!

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